中央美术学院设计集训针对基础薄弱的学员通常会设置一系列针对性课程，旨在弥补知识漏洞，提升学员的综合设计能力。以下是一些常见的针对性课程：
基础素描与速写：
- 基础素描课程会重点讲解线条、明暗、体积、空间等基本绘画要素，帮助学员掌握素描技巧。
- 速写课程侧重于培养学员的观察能力和快速捕捉形象的能力。
色彩基础：
- 色彩课程会从色彩理论、色彩搭配、色彩情感表达等方面入手，提升学员对色彩的敏感度和应用能力。
设计构成：
- 构成课程教授设计的基本法则，如对比、节奏、平衡等，帮助学员建立起良好的设计思维。
设计史与理论：
- 通过学习设计史和理论，学员可以了解不同时期、不同流派的设计特点，从而拓宽视野。
计算机辅助设计：
- 学习Photoshop、Illustrator等设计软件的基本操作和技巧，提高学员的软件应用能力。
专业设计课程：
- 根据学员的专业方向，如平面设计、工业设计、服装设计等，设置相应的专业课程，提高学员的专业技能。
创意思维训练：
- 通过头脑风暴、思维导图等方法，激发学员的创意思维，提高设计创新能力。
作品集指导：
- 为学员提供作品集制作的指导，包括作品集的结构、内容、排版等方面，帮助学员打造一份优秀的作品集。
模拟考试与冲刺：
- 在集训的最后阶段，进行模拟考试和冲刺，帮助学员熟悉考试流程，提高应试能力。
以上课程可以根据学员的具体情况进行调整，确保每位学员都能得到针对性的提升。
猜你喜欢：综合设计培训
