中央美术学院（简称央美）设计集训的学生在设计作品中遇到版权纠纷时，可以采取以下几种解决策略：
了解版权法规：
- 学生首先应该了解中国著作权法及相关法律法规，明确自己的作品享有版权，以及侵犯版权的法律后果。
注册版权：
- 对于特别重要的设计作品，可以考虑在作品完成后进行版权登记，以便在发生纠纷时有官方的版权证明。
签订合同：
- 在参与设计项目或合作创作时，与对方签订详细的合同，明确作品的版权归属、使用范围、收益分配等条款。
避免侵权：
- 在设计过程中，注意避免侵犯他人的版权，包括但不限于使用他人的作品、设计元素等。
收集证据：
- 一旦发现版权被侵犯，应立即收集相关证据，如侵权作品的截图、网页链接、交易记录等。
法律咨询：
- 寻求专业律师的帮助，了解自己的权益，并根据律师的建议采取相应的法律行动。
调解协商：
- 在版权纠纷发生后，可以先尝试与侵权方进行调解协商，寻求双方都能接受的解决方案。
法律诉讼：
- 如果调解协商无果，可以考虑通过法律途径解决纠纷，提起诉讼。
公开声明：
- 在某些情况下，通过媒体公开声明版权问题，可能会对侵权方产生一定的舆论压力。
行业自律：
- 鼓励和参与行业内的版权自律，通过行业协会等组织推动版权保护。
在解决版权纠纷的过程中，重要的是要保持冷静和理性，遵循法律法规，通过合法途径维护自己的权益。同时，也要提高自己的版权意识，尊重他人的知识产权。
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