中央美术学院校考的重点科目主要围绕专业基础能力与综合创作能力展开，结合历年考试大纲和最新招生政策，核心科目可归纳如下：
一、素描
考察重点：造型能力（人物、静物或场景的比例、结构、空间感）、光影处理及细节表现。考试形式包括头像、半身像、静物组合等，要求线条精准且层次丰富。
备考策略：需加强几何形体结构训练，多进行长期写生作业，并临摹大师作品提升表现力。
二、色彩
考察重点：色彩感知力（色调统一性、色彩搭配协调性）、空间与质感表现，涉及静物、风景或人物写生。评分注重画面生动性与细节处理。
备考策略：从基础色彩理论入手，练习不同色调控制，户外写生提升自然色彩捕捉能力。
三、速写
考察重点：动态捕捉能力（人物动态、场景组合）、线条流畅度及构图合理性。考试时间通常较短，要求快速提炼对象特征。
备考策略：进行限时动态速写训练，强化线条表现力，多画组合场景提升整体布局能力。
四、创作
考察重点：创意思维（主题解读、构图新颖性）、综合技法运用。命题创作需结合个人观点与艺术语言表达，自由创作则展现风格独特性。
备考策略：积累生活素材，进行头脑风暴和实验性创作，研究优秀作品构图与技法。
五、设计基础（部分专业）
考察重点：设计类专业（如艺术设计、城市设计）需考核设计思维、方案逻辑及创新能力，可能涉及命题设计或自由创作。
备考策略：关注社会热点与艺术趋势，结合传统文化与前沿理念，强化手绘与数字工具应用。
其他注意事项：
1. 线上与线下考试差异：部分专业需通过线上初试（如素描），合格后方可参加现场复试，线上考试禁用模板工具，需注意设备与考场布置规范。
2. 评分标准权重：各科目均强调“造型准确”“画面效果”等基础能力，创作类更侧重“主题明确”和“技法娴熟”。
3. 综合素质要求：央美近年注重艺术史论知识、跨学科视野及心理素质，建议考生拓展艺术鉴赏能力并参与模拟考试适应节奏。
央美校考重点科目以素描、色彩、速写、创作为核心，设计类专业增设设计基础考核。备考需强化基础训练，结合历年真题分析出题趋势（如2022-2024年考题聚焦社会议题与传统文化创新），同时注重创意表达与综合素养提升。
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